دوره 23، شماره 2 - ( مجله مهندسی برق و الکترونیک ایران - جلد 23 شماره 2 1405 )
جلد 23 شماره 2 صفحات 58-50 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
Soraya M, Parsanasab G, Hajshahvaladi L. Nanolithography Using the Femtosecond Direct Laser Writing Method. Journal of Iranian Association of Electrical and Electronics Engineers 2026; 23 (2) :50-58
URL: http://jiaeee.com/article-1-1771-fa.html
URL: http://jiaeee.com/article-1-1771-fa.html
ثریا مونا، پارسانسب غلام محمد، حاج شاه ولدی لیلا. نانو لیتوگرافی با استفاده از روش نوشتن مستقیم لیزر فمتوثانیه. نشریه مهندسی برق و الکترونیک ایران. 1405; 23 (2) :50-58
دانشکده مهندسی برق، دانشگاه شهید بهشتی
چکیده: (34 مشاهده)
این پژوهش به بررسی فرآیند نانولیتوگرافی با استفاده از روش نوشتن مستقیم لیزر فمتوثانیه پرداخته است. نانولیتوگرافی، یک فن‌آوری پیشرفته است که امکان ساخت ساختارهای میکروسکوپی و نانومتری را فراهم می‌کند. این فرآیند، علاوه بر توانایی در ساخت ادوات الکترونیکی بسیار کوچک و سریع همچون میکرو و نانوچیپها، در ساخت عناصر نانونوری انعطاف‌پذیر و قدرتمند برای مدارهای مجتمع نوری نیز کاربرد دارد. با استفاده از این تکنیک، توانایی ساخت موجبرها و میکرورینگهایی با سطوح بسیار هموار بررسی شده است که منجر به کاهش چشمگیر اتلاف نوری هنگام پیشروی موج در این ساختارها می‌گردد. این فناوری می‌تواند در افزایش بهره‌وری و عملکرد ادوات بسیار مفید واقع شود.
واژه‌های کلیدی: مدارهای مجتمع نوری، نانولیتوگرافی، روش نوشتن مستقیم لیزر فمتوثانیه، موجبرهای نوری، میکرورینگ، اتلاف نوری، جذب دو فوتونی
فهرست منابع
1. [1] J. E. E. Baglin, Ion beam nanoscale fabrication and lithography-A review, Appl. Surf. Sci, Vol. 9, No. 258, 2012 [DOI:10.1016/j.apsusc.2011.11.074]
2. [2] S. T. Howell. A. Grushina, F. Holzner, et al., Thermal scanning probe lithography_a review, Microsystems & Nanoengineering, Nature, Vol. 6, No. 21, 2020. [DOI:10.1038/s41378-019-0124-8]
3. [3] L. J. Guo, Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements. Adv. Mater, Wiley, Vol. 4, No. 19, 2007. [DOI:10.1002/adma.200600882]
4. [4] P. Se.Young, S. Lee, J. Yang, et al., Patterning Quantum Dots via Photolithography: A Review, Adv. Mater, Wiley Publishing, Vol. 35, No. 41, 2023. [DOI:10.1002/adma.202300546]
5. [5] D. Suwandi, R. Aziz, A. Sifa, et al., Dry film photoresist application to a printed circuit board (PCB) using a maskless photolithography method, Int. J. Technol, Vol. 5, No. 10, 2019. [DOI:10.14716/ijtech.v10i5.518]
6. [6] C. Tan, T. Ren, D. Qu, et al., Maskless photolithography based on ultraviolet micro-LEDs and direct writing method for improving pattern resolution, Opt. Express, No. 32, 2024. [DOI:10.1364/OE.520809]
7. [7] A. Yakuhina, A. Kadochkin, V. Svetukhin, et al., Investigation of Side Wall Roughness Effect on Optical Losses in a Multimode Si3N4 Waveguide Formed on a Quartz Substrate, Photonics, Vol. 7, No. 104, 2020. [DOI:10.3390/photonics7040104]
8. [8] M. Bellec, A. Royon, B. Bousquet, et al., Beat the diffraction limit in 3D direct laser writing in photosensitive glass, Opt. Express, No. 17, 2009. [DOI:10.1364/OE.17.010304]
9. [9] A. Martinez, M. Duboy, I. Khrushchev, Direct Writing of Fibre Bragg Gratings by Femtosecond Laser, Electronics Letters, Vol. 19, No. 40, 2004. [DOI:10.1049/el:20046050]
10. [10] S. Rauh, K. Wobbeking, M. Li, et al., From Femtosecond to Nanosecond Laser Micro structuring of Conical Aluminum Surfaces by Reactive Gas Assisted Laser Ablation, ChemPhysChem, Wiley, No. 21, 2020. [DOI:10.1002/cphc.202000418]
11. [11] H. Nishiyama, Y. Hirata, Femtosecond Laser Nonlinear Lithography, Chapter 4, IntechOpen, 2010. [DOI:10.5772/8170]
12. [12] Ghasemi H, Yavari M H. Design and Simulation of Silicon Optical Modulator Based on Microring Resonator. Journal of Iranian Association of Electrical and Electronics Engineers 2022; 19 (2) :47-54 [DOI:10.52547/jiaeee.19.2.47]
13. [13] G. M. Parsanasab, M. Moshkani, A. Gharavi, Femtosecond laser direct writing of single mode polymer micro ring laser with high stability and low pumping threshold, Opt. Express, No. 7, 2015 [DOI:10.1364/OE.23.008310]
14. [14] M. Jahangiri, F. Moradiani, G. M. Parsanasab, et al., High side mode suppression ratio with a Vernier effect single mode laser using triple coupled microrings, Scientific Reports, No. 13, 2023. [DOI:10.1038/s41598-023-34267-9]
15. [15] F. Moradiani, P. A. Arvanagh, G. M. Parsanasab, et al., Single-mode lasing by tailoring the excitation of localized surface plasmon resonances to whispering gallery modes in a microring laser, Opt. Express, Vol. 31, No. 10, 2023. [DOI:10.1364/OE.480355]
16. [16] M. Jahangiri, G. M. Parsanasab, F. Moradiani, Wavelength-selective Single-mode Laser by Joint Use of Parity-time Symmetry and Vernier Effect in Symmetric and Asymmetric Coupled Microrings, Journal of Lightwave Technology, Vol. 42, No. 5, 2023. [DOI:10.1109/JLT.2023.3324226]
17. [17] Jalali T. Analysis of Photonic Crystal Power Splitter Waveguide. Journal of Iranian Association of Electrical and Electronics Engineers 2017; 13 (4) :59-64
18. [18] Bahrami-Chenaghlou F, Habibzadeh-Sharif A, Ahmadpour A. Design and full-wave analysis of a dual-purpose compact all-optical integrated circuit for ultra-fast signal processing. Journal of Iranian Association of Electrical and Electronics Engineers 2023; 20 (3) :59-66 [DOI:10.52547/jiaeee.20.3.59]
19. [19] R.W. Boyd, Nonlinear Optics, Second Edition, 1992
20. [20] S. Maruo, O. Nakamura, S. Kawata, Three-dimensional microfabrication with two-photon absorbed photopolymerization, Opt. Letters, Vol. 2, No. 22, 1997. [DOI:10.1364/OL.22.000132]
21. [21] F. Jipa, M. Zamfirescu, A. Velea, et al., Femtosecond Laser Lithography in Organic and Non-Organic Materials, Chapter 3, 2013 [DOI:10.5772/56579]
22. [22] P. Malekzadeh, G. M. Parsanasab, H. Nikbakht, et al., A high extinction ratio plasmonic SU-8 waveguide polarizer, Opt. Com., No. 487, 2021. [DOI:10.1016/j.optcom.2021.126798]
23. [23] A. Mafakheri, G. M. Parsanasab, P. Sorayaie, et al., Highly efficient DFB laser-assisted grating As2S3 chalcogenide for integrated photonics, Journal of Lightwave Technology, Vol. 42, No. 14, 2024. [DOI:10.1109/JLT.2024.3381647]
24. [24] M. Taghavi, H. Latifi, G. M. Parsanasab, et al., Simulation, Fabrication, and Characterization of a Sensitive SU-8-Based Fabry-Perot MOEMS Accelerometer, Journal of Lightwave Technology, Vol. 37, No. 9, 2019. [DOI:10.1109/JLT.2019.2894752]
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License (CC BY NC 4.0) قابل بازنشر است. |
