<?xml version="1.0" encoding="utf-8"?>
<journal>
<title>Journal of Iranian Association of Electrical and Electronics Engineers</title>
<title_fa>نشریه مهندسی برق و الکترونیک ایران</title_fa>
<short_title>Journal of Iranian Association of Electrical and Electronics Engineers</short_title>
<subject>Engineering &amp; Technology</subject>
<web_url>http://jiaeee.com</web_url>
<journal_hbi_system_id>1</journal_hbi_system_id>
<journal_hbi_system_user>admin</journal_hbi_system_user>
<journal_id_issn>2676-5810</journal_id_issn>
<journal_id_issn_online>2676-6086</journal_id_issn_online>
<journal_id_pii>8</journal_id_pii>
<journal_id_doi>10.61882/jiaeee</journal_id_doi>
<journal_id_iranmedex></journal_id_iranmedex>
<journal_id_magiran></journal_id_magiran>
<journal_id_sid>14</journal_id_sid>
<journal_id_nlai>8888</journal_id_nlai>
<journal_id_science>13</journal_id_science>
<language>fa</language>
<pubdate>
	<type>jalali</type>
	<year>1395</year>
	<month>10</month>
	<day>1</day>
</pubdate>
<pubdate>
	<type>gregorian</type>
	<year>2017</year>
	<month>1</month>
	<day>1</day>
</pubdate>
<volume>13</volume>
<number>4</number>
<publish_type>online</publish_type>
<publish_edition>1</publish_edition>
<article_type>fulltext</article_type>
<articleset>
	<article>


	<language>fa</language>
	<article_id_doi></article_id_doi>
	<title_fa>تحلیل و بهبود جریان حالت خاموش نانو ماسفت کرنشی دومحوره سیلیکانی نوع p با کنترل چگالی ناخالصی زیرلایه مجازی</title_fa>
	<title>Analysis and Improvement of Off-state Current in Biaxially Strained Si Nano p-MOSFET by Virtual Substrate’s Doping Control</title>
	<subject_fa>الکترونیک</subject_fa>
	<subject>Electronic</subject>
	<content_type_fa>پژوهشي</content_type_fa>
	<content_type>Research</content_type>
	<abstract_fa>&lt;p dir=&quot;RTL&quot;&gt;در ماسفت کرنشی دومحوره نوع &lt;span dir=&quot;LTR&quot;&gt;p&lt;/span&gt; سیلیکانی، وجود کانال پارازیتی موازی کانال اصلی، با افزایش جریان حالت خاموش، عملکرد ماسفت را با مشکل مواجه می&amp;shy;کند. در این مقاله، روشی برای حذف این کانال پارازیتی و بهبود جریان حالت خاموش، با کنترل چگالی ناخالصی زیرلایه مجازی ارائه می&amp;shy;شود و سپس بوسیله&amp;shy;ی شبیه ساز، نتایج بررسی می&amp;shy;گردد. نتایج شبیه سازی نشان می&amp;shy;دهد با افزایش دوپینگ بستر مجازی تا مقدار 17^10*4، ضمن تشکیل کانال با موبیلیتی موثر بالا، جریان حالت خاموش تا بیش از &lt;sup&gt;4-&lt;/sup&gt;10 برابر کاهش می&amp;shy;یابد. این روش در طول کانال&amp;shy;های مختلف موثر بوده و همچنین باعث بهبود مقاومت خروجی ماسفت می&amp;shy;گردد.&lt;/p&gt;
</abstract_fa>
	<abstract>&lt;p style=&quot;text-align: justify;&quot;&gt;In biaxially strained p-MOSFET with Si channel, formation of a parasitic parallel channel due to misalignment of energy bands degrades device performance by increasing off-state current. In this paper a new approach has been introduced to eliminate this parasitic channel by increasing the dopant concentration of virtual substrate up to . Using simulation the impact of this method on the parasitic channel has been investigated. According to simulation results, increasing virtual substrate&amp;#39;s doping not only provides a high mobility channel but also significantly reduces off-state current more than four orders of magnitude. This method is effective in various channel length and also increases output resistance of the MOSFET.&lt;/p&gt;
</abstract>
	<keyword_fa>نانو ماسفت کرنشی نوع p, جریان حالت خاموش, چاه کوانتومی, کانال پارازیتی, بستر مجازی</keyword_fa>
	<keyword>strained Si nano p-MOSFET, off-state current, quantum well, parasitic channel, virtual substrate.</keyword>
	<start_page>41</start_page>
	<end_page>50</end_page>
	<web_url>http://jiaeee.com/browse.php?a_code=A-10-1-18&amp;slc_lang=fa&amp;sid=1</web_url>


<author_list>
	<author>
	<first_name>Mohammad Mahdi </first_name>
	<middle_name></middle_name>
	<last_name>Khatami</last_name>
	<suffix></suffix>
	<first_name_fa>محمدمهدی</first_name_fa>
	<middle_name_fa></middle_name_fa>
	<last_name_fa>خاتمی</last_name_fa>
	<suffix_fa></suffix_fa>
	<email>mmkhatami@aut.ac.ir</email>
	<code>10031947532846001377</code>
	<orcid>10031947532846001377</orcid>
	<coreauthor>Yes
</coreauthor>
	<affiliation></affiliation>
	<affiliation_fa>دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر- دانشگاه تربیت مدرس- تهران- ایران</affiliation_fa>
	 </author>


	<author>
	<first_name>Majid </first_name>
	<middle_name></middle_name>
	<last_name>Shalchian</last_name>
	<suffix></suffix>
	<first_name_fa>مجید</first_name_fa>
	<middle_name_fa></middle_name_fa>
	<last_name_fa>شالچیان</last_name_fa>
	<suffix_fa></suffix_fa>
	<email>shalchian@aut.ac.ir</email>
	<code>10031947532846001378</code>
	<orcid>10031947532846001378</orcid>
	<coreauthor>No</coreauthor>
	<affiliation></affiliation>
	<affiliation_fa>دانشکده مهندسی برق- دانشگاه صنعتی امیرکبیر - تهران- ایران</affiliation_fa>
	 </author>


	<author>
	<first_name>Mohammadreza </first_name>
	<middle_name></middle_name>
	<last_name>Kolahdouz</last_name>
	<suffix></suffix>
	<first_name_fa>محمدرضا</first_name_fa>
	<middle_name_fa></middle_name_fa>
	<last_name_fa>کلاهدوز</last_name_fa>
	<suffix_fa></suffix_fa>
	<email>kolahdouz@ut.ac.ir</email>
	<code>10031947532846001379</code>
	<orcid>10031947532846001379</orcid>
	<coreauthor>No</coreauthor>
	<affiliation></affiliation>
	<affiliation_fa>دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر- دانشگاه تهران - تهران- ایران</affiliation_fa>
	 </author>


</author_list>


	</article>
</articleset>
</journal>
